ITO镀膜技术原理

旋转阴极采用的是真空磁控溅射镀膜技术。磁控溅射镀膜就是用荷能粒子轰击靶材表面使得靶材表面原子从母体中逸出打在要镀膜的物件表面，其基本过程是，在镀膜线真空室内，气体在高电压下放电产生等离子体，等离子体在阴极内互相垂直的电磁场中沿环形磁场在靶面附近做加速螺旋运动，被加速的正离子轰击靶表面时，将自身的能量传给靶材表面的原子，入射正离子轰击靶材表面后除产生原子外，还有产生电子，原子离开靶材沉积在物件表面上形成薄膜。镀膜产品的应用非常广泛，最常见的就是手机的触摸屏。